设计入口之版图CoventorWare

1.1创建二维工艺版图

上述工艺流程中的每步刻蚀步都需要对应的掩模版，在CoventorWare中打开版图编辑器，点击Layerbrowser，发现工艺流程每步刻蚀工艺中定义的Mask Name直接出现在其中，绘制每块MASK相对应的图形，可创建多个cell利用reference功能简化操作步骤。

图2 版图默认Layers

1.1.1版图编辑器系统设置

设置工作Grid值为0.5，修改画布背景为白色。为了在绘制过程中精确放置各点，需要设置grid值为0.5或者更小。

1.1.2绘制基层单元

使用版图编辑器中基础的Rectangles，Circles，Paths，Pie绘图功能，绘制该器件所需的基层单元，分别命名为BEAM_ANCHOR_GND、HOLE3umBY3um、BEAM_ANCHOR_NO_GND、DUMMY_BEAM、METAL_PAD、MIRROR_MOAT，相对应的图形分别如下图所示。

图3 基层单元

(1)BEAM_ANCHOR_GND(2)HOLE3umBY3um(3)BEAM_ANCHOR_NO_GND   (4) DUMMY_BEAM   (5) METAL_PAD   (6) MIRROR_MOAT

1.1.3绘制四分之一镜面单元

利用基础Pie绘图功能绘制四分之一镜面主图形。利用Referencde > Array Reference功能绘制镜面上的通孔。利用Referencde > Reference功能绘制镜面边缘不规则分布的通孔。命名该单元为Mirror_Q。

图4 Array Reference

图5 Mirror_Q单元

1.1.4绘制Mirror单元

利用版图编辑器的Mirror功能镜像四分之一四分之一镜面单元Mirror_Q，形成整个镜面主图形。分别在点(-5,-101)、(-5,101)处利用Referencde > Reference功能Reference DUMMY_BEAM单元。在点(253,0)处Reference BEAM_ANCHOR_GND单元。在点(-253,0)处Reference BEAM_ANCHOR_NO_GND单元。绘制两个矩形。完成整个Mirror单元的绘制。

图6 Mirror单元

1.1.5绘制Mirror阵列

分别在点(-320,120)、(0,0)、(320,-120)处Reference整个镜面单元。利用Referencde > Array Reference功能Array Reference单元METAL_PAD。利用Referencde > Reference功能Reference单元MIRROR_MOAT。使用基本Path绘图功能按需求连接金属引线。在Clip层，绘制矩形。完成Mirror阵列单元绘制，命名为MIRROR_ARRAY。

图7 Mirror_Array单元

综上，最终整个版图的分层构架为：

图8 版图构架

1.2三维实体模型

在Solid Model Builder对话框中，确保Mirror_Array.proc Mirror_Array.cat文件分别选择在相应区域。选择MIRROR_ARRAY作为TOP Cell。点击Build生成三维实体模型。

图9 Solid Model Builder

图10 三维实体模型

图11 三维剖视图

重新打开Solid Model Builder对话框，点击Show Options，勾选Clip Device with Mask选项，从下拉菜单中选择Clip，点击Build。生成Mirror整理实体模型的一部分，见下图。

图12 Clip Device with Mask

图13 生成镜阵列的局部实体